美國PVD 脈沖激光沉積（PLD）/大面積PLD/涂層帶PLD系統(tǒng)
價(jià) 格：詢價(jià)
產(chǎn) 地：美國更新時(shí)間：2020-10-29 14:10
品 牌：PVD型 號(hào)：
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2398
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美***PVD公司為客戶提供優(yōu)質(zhì)的薄膜沉積設(shè)備，特別是大面積脈沖激光沉積(PLD)系統(tǒng)，還包括沉積元件如靶材操縱器和智能視窗等，另外可為客戶訂制激光分子束外延設(shè)備(L-MBE)。
根據(jù)客戶的不同需求，提供以下型號(hào)：
1．小面積PLD系統(tǒng)，也就是NANO-PLD型，該系統(tǒng)簡(jiǎn)單、緊湊，具有多種功能，非常適合小型的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室。
2．大面積PLD系統(tǒng)，包括PLD 3000、PLD 5000、PLD 8000三個(gè)型號(hào)，非常適合于大的公共機(jī)構(gòu)，政府實(shí)驗(yàn)室和***防機(jī)構(gòu)的研發(fā)和試制生產(chǎn)。
3．高溫超導(dǎo)帶涂層系統(tǒng)，也就是PLD T100型，非常適合于生產(chǎn)高溫超導(dǎo)帶和線纜，目前已有兩套系統(tǒng)賣到日本知名的***際超導(dǎo)產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究中心超導(dǎo)工學(xué)研究所（SRL-ISTEC），而且在高溫超導(dǎo)線纜中獲得了記錄電流密度，創(chuàng)高溫超導(dǎo)線材創(chuàng)新記錄。
應(yīng)用領(lǐng)域：
1) 高溫超導(dǎo)研發(fā)：合成新的高溫超導(dǎo)材料或者微調(diào)高溫超導(dǎo)材料 2) 高溫超導(dǎo)工業(yè)研發(fā)：高溫超導(dǎo)線纜和帶沉積，移動(dòng)通信的微波過濾器，電力分配網(wǎng)的錯(cuò)誤電流限制器，超導(dǎo)磁能存儲(chǔ)器(SMES)，超導(dǎo)量子干涉磁量?jī)x元素制作，超導(dǎo)電子配件，磁共振成像應(yīng)用，磁懸浮如火車 3) 鐵電材料和設(shè)備4) 電-光和光學(xué)材料：電鍍鉻材料，電-光材料如PLZT, BST等 5) 電介材料，如AlN薄膜 6) 硬質(zhì)薄膜，如TiCxN(1-x) 薄膜 7) 透明導(dǎo)電氧化物(TCO)沉積 8) 測(cè)輻射熱敏元素生產(chǎn)，用于熱跟蹤的熱探測(cè)，熱成像，熱度量衡等 9) 制備新材料特別是功能陶瓷 10) 制備納米粒子 11) 矩陣輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)聚合物薄膜 12) 制備用于MRAMs和錄音磁頭上GMR的鐵磁材料等
技術(shù)參數(shù)歡迎索取詳細(xì)資料 主要特點(diǎn)通用產(chǎn)品：1.系統(tǒng)可根據(jù)客戶的特殊要求設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單方便。可使用大尺寸靶材生長(zhǎng)大面積薄膜，基底的尺寸直徑范圍大2.方便更換基底和靶材 3. 手動(dòng)或計(jì)算機(jī)控制選定靶材 4. 主腔室預(yù)留備用的腔口 5. 系統(tǒng)使用程序化的成像鏈(Optical Train)，6. 系統(tǒng)使用特有的黑體基底加熱設(shè)計(jì)
產(chǎn)品參數(shù)
通用產(chǎn)品：
1.系統(tǒng)可根據(jù)客戶的特殊要求設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單方便。可使用大尺寸靶材生長(zhǎng)大面積薄膜，基底的尺寸直徑范圍大
2.方便更換基底和靶材
3. 手動(dòng)或計(jì)算機(jī)控制選定靶材
4. 主腔室預(yù)留備用的腔口
5. 系統(tǒng)使用程序化的成像鏈(Optical Train)，
6. 系統(tǒng)使用特有的黑體基底加熱設(shè)計(jì)
滬公網(wǎng)安備31011502016460號(hào)
