日本JEOL 聚焦離子束加工觀察系統 JIB-4000
JIB-4000聚焦離子束加工觀察系統配置了高性能的離子鏡筒(單束FIB裝置)。被加速了的鎵離子束經聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行SIM觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為TEM成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內部制備截面樣品。通過與SEM像比較，SIM像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結構。
- 產品規格
- FIB
- 離子源：Ga （鎵）液態金屬離子源
- 加速電壓：1～30ｋV（5 kV/步）
- 放大倍率：×60 （用于視場搜索），×200～×300,000
- 圖像分辨率：5 nm (30 kV)
- 束流：60 nA (at 30 kV)
- 可變光闌：12 檔(馬達驅動)
- 離子束加工形狀：矩形、線狀、點狀
- 樣品臺：.塊狀樣品用 5 軸測角樣品臺，X:±11 mm
Y:±15 mm
Z:0.5 ～ －23 mm
T:－5 ～ ＋60°
R:360°無限
樣品尺寸: 28 ｍｍφ（高度13 ｍｍ）、50 ｍｍφ（高度2 ｍｍ）
· 主要附件
· 氣體注入系統 (IB-02100GIS2)
· 碳沉積圓筒 (IB-52110CDC2)
· 鎢沉積圓筒(IB-52120WDC2)
· 白金沉積圓筒 (IB-52130WDC2)
· 側插式測角樣品臺 (IB-01040SEG)
· 束流探測器 (IB-04010PCD)
· 操作面板(IB-05010OP)
· 樣品臺導航系統 (IB-01200SNS)
· FIB Tip-on(尖端上可以安裝附件的)樣品架(EM-02210)
· FIB 塊狀樣品用樣品架FIB (EM-02220)
· FIB 塊狀樣品用樣品架1(EM-02560FBSH1)
· FIB 塊狀樣品用樣品架2 (EM-02570FBSH2)
· FE-SEM 樣品架適配器 (EM-02580FSHA)
· 穿梭移動夾頭Shuttle Retainer EM-02280 (EM-02280)
· 原位樣品提取系統 (EM-02230)
產品特點：
· JIB-4000聚焦離子束加工觀察系統配置了高性能的離子鏡筒(單束FIB裝置)。被加速了的鎵離子束經聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行SIM觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為TEM成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內部制備截面樣品。通過與SEM像比較，SIM像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結構。
· 高性能FIB鏡筒
· JIB-4000采用高性能的FIB鏡筒，離子束流高達 60 nA，能進行快速研磨。大電流下的快速加工尤其適合于大面積的研磨，制備100 μｍ以上用來觀察的截面非常輕松。
· 用戶友好的FIB裝置
· JIB-4000高性能的 FIB鏡筒具有出色的可操作性。用戶友好的外觀和GUI設計，建立了使用方便的FIB系統。即使不是FIB專***也能夠輕松操作，此外，該裝置小巧緊湊為業界*小體積，安裝地點的選擇范圍很大。
· 雙樣品臺
· JIB-4000標配的塊狀樣品馬達驅動樣品臺可供塊狀樣品使用，此外還可以增配側插式測角臺（TEM用Tip-on 樣品架可以直接插入）。塊狀樣品馬達驅動樣品臺能觀察整個表面為20 mm x 20 mm的塊狀樣品，樣品交換可以通過氣鎖式系統快速進行。側插式測角臺與JEOL的TEM系統使用的相同，因此Tip-on （尖端上可以安裝附件的）樣品架與JEOL的TEM系統可以通用，這樣，FIB加工和TEM觀察的反復交替就能很容易地進行。
· 豐富的附件
· 有各種附件可用來支持JIB-4000的操作。包括對電路修改應用特別有效的CAD導航系統，對特殊形狀加工有效的矢量掃描系統等。通過給JIB-4000安裝適當的附件，該系統可以支持樣品制備以外的應用。
滬公網安備31011502016460號
