德*** PVA TePla 等離子去膠機
型號：IoN 100WB-40Q等離子去膠機
IoN 100WB-40Q是我們*新推出的具有高性價比的真空等離子去膠設備。它來源于IoN 100-40Q，IoN 100WB-40Q延續了同樣的高品質保障，包括可選壓力控制器、光譜終點檢測器等豐富配置選擇。
IoN 100WB-40Q配備了***個圓筒石英腔，特別適用于半導體、LED、MEMS等領域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應用的批次處理。
IoN 100 WB旨在滿足客戶的生產需求，著重于表面處理的多功能性和可控性。其的性能提供了出色的工藝控制、失效報警系統和數據采集軟件。這使得該設備可滿足半導體、LED、MEMS等領域嚴格的程序控制要求。IoN 100 WB結構緊湊，集成度高，采用射頻（RF）頻率激發等離子體。
的功能特性：
● 低微粒石英腔體
● 觸摸屏操作，圖形用戶界面（GUI）
● 使用Windows系統的工業計算機控制
● 工藝員、操作元、維護員訪問權限控制
● 自診斷功能和警報記錄功能，聯網在線診斷功能
● 以太網遠程控制功能
● 工藝編輯軟件提供了快速靈活的步驟控制功能
● 可隔墻安裝
● 可選配光譜終點檢測功能
規格參數
工作腔室材料 石英
腔門材質 鋁（標配）
腔體尺寸 直徑304 mm，深508mm
可處理晶圓尺寸 8”
處理量 50片6”
裝料方式 手動
工藝氣體
質量流量控制計 *多至6路氣體
工藝壓力 200-2000 mTorr(取決于真空泵和氣體流量)
抽真空時間 大約1分鐘 (取決于真空泵)
射頻電源 風冷13.56MHz,600 瓦(標準配置)
供給需求電源 220V 單相, 50Hz
工藝氣體 輸入壓力 1-2 bar
吹掃氣體 輸入壓力 1-2 bar
壓縮空氣 輸入壓力 4-6 bar
機體
● 獨立的機體帶有所有電源和氣體接口
● 帶有旋轉墊腳的可轉動機身
設備尺寸
標準尺寸 1067 x 737 x 1524 mm（寬/高/深，不含泵）
重量 約204千克（不含泵）
可選項
● 壓力控制器
● 1%精度的真空規
● 石英腔門
● 指示燈柱
● 條形碼閱讀器
● 工藝氣體切換器
● 光譜終點檢測器
● 耐腐蝕性氣體的MFC
● 1000 瓦13.56 MHz射頻發生器
● 真空泵（油泵或干泵）
滬公網安備31011502016460號
