英國 DENTON 磁控濺射及電子束蒸發薄膜沉積平臺
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產 地：更新時間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：DENTON磁控濺射及電子束蒸發薄膜沉積平臺
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DENTON 磁控濺射及電子束蒸發薄膜沉積平臺：
DENTON 真空使創新成為可能，并已超過50年。
全球成千上萬的薄膜沉積工具安裝,包括***個大型的、在全球范圍內安裝的精密光學沉積系統——工程師和研究人員依靠DENTON 的薄膜創新驅動更高的吞吐量,更好的收益和低擁有成本(***席運營官),受益于綜合服務和支持,和***個專門的研發項目,提供可行的技術。 探索者提供了薄膜工業中*廣泛的配置和沉積模式:電子束蒸發、電阻蒸發、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。
DENTON 薄膜沉積平臺 •R & D •批量生產 •在線生產 •蒸發 •濺射 •PE-CVD
DENTON 的區別 你們的過程就是我們的過程。 我們與您合作設計***個系統，以解決您的確切薄膜涂裝工藝的需要。當我們給你運送工具時，它已經準備好生產了。 •我們的系統規模可以滿足您的生產需求 •我們永遠相信客戶 •全球支持網絡 在DENTON，我們關心你的成功 •工廠驗收測試 •個性化培訓 •遠程、實時支持 •CE / UL / CSA兼容系統
能濺射 電、磁、復合材料。柔性陰極，調整到沖擊角也可用。
強大的控制系統 可在半手動模式或全自動模式與***個推動自動化，以減少系統停機時間。
Processpro升***提供: 1.所有登頓真空產品的***致性控制。 2.標準軟件使其易于支持和避免昂貴的定制費用。 3.源代碼為您的程序，以便您可以自定義您的程序。 4.網絡功能使資源管理器 網絡上支持實時、遠程支持和升***的節點。 
靈活的室大小 可容納多達10英寸的襯底。
多個泵配置 多種擴散、低溫和渦輪泵配置可用于滿足您的預算和工藝。后方或底部安裝的泵提供方便的訪問服務，根據您的工作場所的需要。
典型的應用
PE-CVD •材料研究 •小批處理系統 •3 d對象 •覆蓋各種材料 濺射 •材料研究 •產品質量控制和質量保證 •半導體失效分析 •CD掌握 •納米技術 •化合物半導體 •oled 蒸發 •材料研究 •離子輔助沉積(IAD) •醫療設備 •電信 •CD掌握 •發射 •保護涂層 
選項：
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滬公網安備31011502016460號
